特許
J-GLOBAL ID:200903051166080591

質量分析用マトリックス化合物、質量分析用基板及び質量分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山下 穣平 ,  志村 博 ,  永井 道雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-161061
公開番号(公開出願番号):特開2007-327910
出願日: 2006年06月09日
公開日(公表日): 2007年12月20日
要約:
【課題】脱離/イオン化による高分子量化合物の検出を高感度に行うと共に、実質的に低分子領域の解析に支障がでないようにフラグメンテーションを極力避けることを可能にする質量分析用マトリックス化合物、質量分析用基板及び該マトリックス化合物を用いた質量分析装置を提供することである。【解決手段】質量分析用マトリックス化合物において、照射レーザー光により質量数が160未満の化合物に分解された主たる分解生成物により測定対象分子を脱離・イオン化せしめる質量分析用マトリックス化合物及び該マトリックス化合物を用いた質量分析装置、 あるいは、金属若しくは半導体基板の表面にミクロポーラス膜又はメソポーラス膜を設け、更に、そのミクロ孔内又はメソ孔内にマトリックス化合物を担持させ、照射レーザー光により質量数が160未満の化合物のみを細孔外に選択的に発生させる質量分析用基板。【選択図】なし
請求項(抜粋):
質量分析用マトリックス化合物において、照射レーザー光により質量数が160未満の化合物に分解された主たる分解生成物により測定対象分子を脱離・イオン化せしめることを特徴とする質量分析用マトリックス化合物。
IPC (1件):
G01N 27/62
FI (1件):
G01N27/62 Z
Fターム (8件):
2G041CA01 ,  2G041DA04 ,  2G041DA05 ,  2G041DA09 ,  2G041DA20 ,  2G041GA06 ,  2G041JA02 ,  2G041JA08
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)

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