特許
J-GLOBAL ID：200903051205821847
パターン形成方法、物質波描画装置及び立体構造物製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 兼行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-087049
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286591
出願日： 1995年04月12日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：
【要約】【目的】 本発明の、物質波を用いて製造されたホログラム乾板を透過した物質波を試料上に結像させることにより、試料上に微細パターンを形成するパターン形成方法及び物質波描画装置、更に製造の任意性及び容易性を向上し得る立体構造物製造方法を提供することを目的とする。【構成】 CGHにより適当に2値化したホログラムパターンを計算し、電子ビーム描画装置の描画パターンに変換する(ステップ31、32)。SiNx/Si基板上に適当なレジストを塗布し(ステップ33)、その後電子ビーム描画装置により電子ビーム露光を行う(ステップ35)。その後、現像等を行ってホログラムパターンを形成したホログラム乾板を得る(ステップ36〜39)。このホログラム乾板を用いて電子ビームリソグラフィにより、微細パターンを形成する。
請求項（抜粋）：
基板上の第1の物質波に感光するレジストに該第1の物質波を照射して、又は該第1の物質波で励起され、分解、堆積反応の起こるガスを用いて製造されたホログラム乾板に、該第1の物質波と同一又は異なる第2の物質波を照射して干渉させ、該ホログラム乾板を透過した該第2の物質波を該第2の物質波に感光する感光材料を塗布した試料上に結像させることにより、該試料上に微細パターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (6件)：
G03H 1/08
, B29C 35/08
, B29C 67/00
, G03F 7/20
, G03H 5/00
, B29K105:24
G03H 1/08
, B29C 35/08
, B29C 67/00
, G03F 7/20
, G03H 5/00
