荷電ビーム装置およびパターン傾斜観察方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089909
公開番号（公開出願番号）：特開2001-273861
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】インライン評価に適用可能で高速かつ高精度の傾斜観察機能を有する荷電ビーム装置およびパターンの傾斜観察方法を提供する。【解決手段】電子銃12、コンデンサレンズ22、走査偏向器26、対物レンズ28、および2次電子検出器82を備える荷電ビーム装置10において、対物レンズ28と試料Sとの間に設置された傾斜観察用偏向器32をさらに備え、試料面に入射る直前で荷電ビーム6を偏向させ、試料Sに対して斜めに入射させる。荷電ビーム6の偏向角度は傾斜観察用偏向器32に入力される直流成分により制御する。傾斜偏向による荷電ビーム6の照射位置のずれは、傾斜観察用偏向器32への入力値および傾斜角度を走査偏向器26の入力値にフィードバックすることにより観察位置を補正制御する。

請求項（抜粋）：

荷電ビームを生成し、検査対象である試料に照射する荷電ビーム出射手段と、前記荷電ビームを集束するコンデンサレンズと、前記荷電ビームを偏向させて前記試料上で走査する走査偏向器と、前記荷電ビームを前記試料面で結像させる対物レンズと、前記対物レンズと前記試料との間に設けられ、前記荷電ビームを偏向させ、ビーム軸との間で任意の傾斜角度を有するように前記荷電ビームを試料に対して斜めに入射させる傾斜観察用偏向器と、前記荷電ビームの照射により前記試料から発生した2次荷電粒子もしくは反射荷電粒子または前記2次荷電粒子および前記反射荷電粒子を検出する荷電粒子検出手段と、前記傾斜角度を制御する制御手段と、を備える荷電ビーム装置。

IPC (8件)：

H01J 37/147 , G03F 7/20 501 , H01J 37/141 , H01J 37/20 , H01J 37/22 502 , H01J 37/28 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (8件)：

H01J 37/147 B , G03F 7/20 501 , H01J 37/141 Z , H01J 37/20 D , H01J 37/22 502 H , H01J 37/28 B , H01L 21/66 P , H01L 21/30 502 V

Fターム (25件)：

2H097BB03 , 2H097CA16 , 2H097EA01 , 2H097KA28 , 2H097LA10 , 4M106BA02 , 4M106BA03 , 4M106CA51 , 4M106CA52 , 4M106DH08 , 4M106DH24 , 4M106DH50 , 4M106DJ19 , 5C001AA03 , 5C001CC04 , 5C033DD05 , 5C033DE06 , 5C033FF01 , 5C033FF03 , 5C033FF06 , 5C033UU01 , 5C033UU02 , 5C033UU03 , 5C033UU05 , 5C033UU06

引用特許：

審査官引用 (13件)

静電偏向器の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-296672 出願人：株式会社ニコン
荷電粒子線装置のビームブランキング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-044572 出願人：日本電子株式会社
FIB加工装置における傾斜像シフトの補正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-055420 出願人：株式会社日立製作所

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