特許
J-GLOBAL ID:200903051262054313

ナノプリンティング用の成形型、そのような成形型を製造するための方法、およびそのような成形型の使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-130550
公開番号(公開出願番号):特開2005-313647
出願日: 2005年04月27日
公開日(公表日): 2005年11月10日
要約:
【課題】 ナノプリンティング用の成形型を提供すること。【解決手段】 本発明は凹部と凸部型のパターン(12)を有するナノプリンティング用の成形型に関する。それはまた、各々が成形型のパターンとリザーバ領域(14)との間の連絡を提供する1つまたはいくつかのダクト(13)も有する。【選択図】 図5A
請求項(抜粋):
凹部および凸部型のパターン(12)を含むナノプリンティング用成形型であって、各々が成形型パターン(12)とリザーバ領域(14)との間の連絡を提供する1つまたはいくつかのダクト(13)を含むことを特徴とするナノプリンティング用成形型。
IPC (4件):
B29C33/42 ,  B29C33/38 ,  B29C33/76 ,  B29C59/02
FI (4件):
B29C33/42 ,  B29C33/38 ,  B29C33/76 ,  B29C59/02 B
Fターム (29件):
4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA09 ,  4F202CB01 ,  4F202CD06 ,  4F202CD12 ,  4F202CD16 ,  4F202CD24 ,  4F202CK07 ,  4F202CK42 ,  4F202CK90 ,  4F202CP01 ,  4F202CP08 ,  4F202CP10 ,  4F209AA21 ,  4F209AA33 ,  4F209AC03 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AG21 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PN06
引用特許:
出願人引用 (5件)
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