特許
J-GLOBAL ID:200903051262054313
ナノプリンティング用の成形型、そのような成形型を製造するための方法、およびそのような成形型の使用方法
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (4件):
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-130550
公開番号(公開出願番号):特開2005-313647
出願日: 2005年04月27日
公開日(公表日): 2005年11月10日
要約:
【課題】 ナノプリンティング用の成形型を提供すること。【解決手段】 本発明は凹部と凸部型のパターン(12)を有するナノプリンティング用の成形型に関する。それはまた、各々が成形型のパターンとリザーバ領域(14)との間の連絡を提供する1つまたはいくつかのダクト(13)も有する。【選択図】 図5A
請求項(抜粋):
凹部および凸部型のパターン(12)を含むナノプリンティング用成形型であって、各々が成形型パターン(12)とリザーバ領域(14)との間の連絡を提供する1つまたはいくつかのダクト(13)を含むことを特徴とするナノプリンティング用成形型。
IPC (4件):
B29C33/42
, B29C33/38
, B29C33/76
, B29C59/02
FI (4件):
B29C33/42
, B29C33/38
, B29C33/76
, B29C59/02 B
Fターム (29件):
4F202AJ02
, 4F202AJ06
, 4F202AJ09
, 4F202CA09
, 4F202CB01
, 4F202CD06
, 4F202CD12
, 4F202CD16
, 4F202CD24
, 4F202CK07
, 4F202CK42
, 4F202CK90
, 4F202CP01
, 4F202CP08
, 4F202CP10
, 4F209AA21
, 4F209AA33
, 4F209AC03
, 4F209AD08
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AG21
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PC06
, 4F209PC07
, 4F209PN06
引用特許:
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