特許
J-GLOBAL ID：200903051275362777

処理方法

発明者：
上野 欽也

上野 欽也 について

, 
上川 裕二

上川 裕二 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-071383
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246230
出願日： 1996年03月01日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 蒸気発生室86内に処理液を円滑に供給できる方法を提供すること。【解決手段】 処理液供給源88から蒸気発生室86内に供給した処理液を加熱することにより処理液の蒸気を発生させ、その蒸気を処理槽18内に導入して処理槽18内に収納した被処理体Wを処理する処理方法において、処理槽18内に処理液の蒸気を導入している時は、蒸気発生室86内に処理液を供給せず、処理液供給源88から蒸気発生室86内に処理液を供給している時は、蒸気発生室86内での処理液の蒸気の発生を行わないことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
処理液供給源から蒸気発生室内に供給した処理液を加熱することにより処理液の蒸気を発生させ、その蒸気を処理槽内に導入して処理槽内に収納した被処理体を処理する処理方法において、前記処理槽内に処理液の蒸気を導入している時は、前記蒸気発生室内に処理液を供給せず、前記処理液供給源から前記蒸気発生室内に処理液を供給している時は、前記蒸気発生室内での処理液の蒸気の発生を抑制することを特徴とする処理方法。
引用特許：
審査官引用 (4件)
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