特許

J-GLOBAL ID：200903051362899310

重合体、これを含有する化学増幅型ネガレジスト及びレジストパターン形成方法

発明者： 岩佐 繁之 ,  前田 勝美 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 西村 征生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-229154
公開番号（公開出願番号）：特開2000-063433
出願日： 1998年08月13日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザ光等を露光光源として、微細なネガ型のレジストパターンを得ることのできる化学増幅型ネガレジストを提供する。【解決手段】 ベース樹脂は、式(18)で表される。光酸発生剤は、ArFエキシマレーザ光露光でプロトン酸を発生する。 【化18】 R1,R3,R5は水素原子、メチル基、アルキル基等、R2,R4は、橋かけ環式炭化水素基を有するアルキレン基、R6は、水素原子又はアルキル基。

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表され、重量平均分子量が、1,000〜500,000であることを特徴とする重合体。【化1】式(1)において、R1は水素原子又はメチル基、R2は、橋かけ環式炭化水素基を有する炭素数7〜18のアルキレン基を表している。

IPC (7件)：

C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/36 ,  C08L 33/06 ,  C08L 33/26 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/36 ,  C08L 33/06 ,  C08L 33/26 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (48件)：

2H025AA00 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BD42 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BJ04 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BG071 ,  4J002BG121 ,  4J002EB076 ,  4J002EB106 ,  4J002EQ006 ,  4J002EU016 ,  4J002EU026 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM21Q ,  4J100AM21R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA05Q ,  4J100BA05R ,  4J100BA06Q ,  4J100BA06R ,  4J100BA16P ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ビニルモノマー、重合体、フォトレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-203150   出願人：日本電気株式会社
• (メタ)アクリレート、重合体、フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-099064   出願人：日本電気株式会社