特許
J-GLOBAL ID:200903051365347432
基板処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三好 祥二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-064445
公開番号(公開出願番号):特開2008-227201
出願日: 2007年03月14日
公開日(公表日): 2008年09月25日
要約:
【課題】 ボート交換式の基板処理装置に於いて、炉口部に無用な空間が形成されることを防止し、ガスの巻込み、異物の混入を防止する。 【解決手段】 基板を収納し、処理する処理室と、該処理室に基板を搬入出する為の開口部4と、該開口部を閉塞する閉塞手段5と、前記処理室で基板を保持し、前記閉塞手段に載置される基板保持具7と、前記処理室から搬出された前記基板保持具を前記閉塞手段に対して着脱する着脱手段とを備え、前記開口部に該開口部の内径を狭める混入防止部材15を設けた。 【選択図】 図7
請求項(抜粋):
基板を収納し、処理する処理室と、該処理室に基板を搬入出する為の開口部と、該開口部を閉塞する閉塞手段と、前記処理室で基板を保持し、前記閉塞手段に載置される基板保持具と、前記処理室から搬出された前記基板保持具を前記閉塞手段に対して着脱する着脱手段とを備え、前記開口部に該開口部の内径を狭める混入防止部材を設けたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/31
, H01L 21/22
, C23C 16/44
FI (3件):
H01L21/31 E
, H01L21/22 511Q
, C23C16/44 B
Fターム (13件):
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA10
, 4K030GA02
, 4K030GA13
, 4K030KA45
, 4K030LA15
, 5F045AA20
, 5F045BB15
, 5F045DP19
, 5F045DQ05
, 5F045EC01
, 5F045EN02
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
基板処理装置及び半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-006690
出願人:株式会社日立国際電気
-
熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-326593
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-302828
出願人:株式会社日立国際電気
前のページに戻る