特許

J-GLOBAL ID：200903051488528911

ファインパターン用電解銅箔とその製造方法

発明者： アダム・エム・ウォルスキー ,  ミッシェル・ストレール ,  鈴木 昭利 ,  大塚 英雄
出願人/特許権者： 古河サーキットフォイル株式会社
代理人 (1件)： 津国 肇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-106743
公開番号（公開出願番号）：特開平9-143785
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、引き剥し強さを低下させることなく、高いエッチングファクターを持ち、配線パターンの根元に銅粒子が残ることなく、ファインパターンを達成できる銅箔であると共に大きな高温伸び率及び高い引張り強さを有する銅箔を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、電解銅箔であって、未処理銅箔の析出面の表面粗度RZ が該未処理銅箔の光沢面の表面粗度RZ と同じか、それより小さい箔の析出面上に粗化処理を施したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

未処理銅箔の析出面の表面粗度RZ が該未処理銅箔の光沢面の表面粗度RZ と同じか、それより小さい箔の析出面上に粗化処理を施したことを特徴とする電解銅箔。

IPC (3件)：

C25D 1/04 311 ,  H05K 3/00 ,  C25F 3/02

FI (3件)：

C25D 1/04 311 ,  H05K 3/00 A ,  C25F 3/02 B

引用特許：

出願人引用 (12件)

• 特表平4-501887
  
• 特表平5-502062
  
• 酸性銅めっき浴及びこれを使用するめっき方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-308063   出願人：奥野製薬工業株式会社
• 特開平2-073990
  
• 特公平1-011719
  
• 特表平7-505187
  
• 金属箔を製造する電解方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-340767   出願人：サーキットフォイルユーエスエー,インコーポレイテッド
• 特開平2-182890
  
• 特開平4-088185
  
• 特開昭62-182295
  
• 特公平2-025995
  
• 電着銅箔、および、塩化物イオンならびに有機添加剤の制御添加物を含有する電解質溶液を用いる電着銅箔の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-115647   出願人：グールドエレクトロニクスインコーポレイテッド

審査官引用 (23件)

• 特表平4-501887
  
• 特表平5-502062
  
• 酸性銅めっき浴及びこれを使用するめっき方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-308063   出願人：奥野製薬工業株式会社
• 特開平2-073990
  
• 特公平1-011719
  
• 特表平7-505187
  
• 金属箔を製造する電解方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-340767   出願人：サーキットフォイルユーエスエー,インコーポレイテッド
• 特開平2-182890
  
• 特開平4-088185
  
• 特開昭62-182295
  
• 特公平2-025995
  
• 電着銅箔、および、塩化物イオンならびに有機添加剤の制御添加物を含有する電解質溶液を用いる電着銅箔の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-115647   出願人：グールドエレクトロニクスインコーポレイテッド
• 特表平4-501887
  
• 特表平5-502062
  
• 特開平2-073990
  
• 特公平1-011719
  
• 特表平7-505187
  
• 特開平2-182890
  
• 特開平4-088185
  
• 特開昭62-182295
  
• 特公平2-025995
  
• 電着銅箔およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-257212   出願人：グールドエレクトロニクスインコーポレイテッド
• 特開平4-088185