特許
J-GLOBAL ID：200903051587224894

パターン形成体の製造方法

発明者：
服部 秀志

服部 秀志 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-380889
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184752
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：
【要約】【課題】 マイクロ・コンタクトプリンティングに適さないような場合であっても、フォトリソグラフィ法を用いることなく精細なパターン形成体を製造することが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材の表面材料を化学的に変性するために、版を用いて基材の表面材料に前記表面材料を変性する変性剤をパターン状に付着させ、基材の表面材料に化学的に変性された領域のパターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。
請求項（抜粋）：
基材の表面材料を化学的に変性するために、版を用いて基材の表面材料に前記表面材料を変性する変性剤をパターン状に付着させ、基材の表面材料に化学的に変性された領域のパターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  C23C 18/28
FI (2件)：
C23C 18/28 ,  H01L 21/306 F
Fターム (11件)：
4K022AA01 ,  4K022AA03 ,  4K022AA13 ,  4K022AA41 ,  4K022CA06 ,  4K022DA01 ,  5F043AA22 ,  5F043AA40 ,  5F043DD30 ,  5F043GG02 ,  5F043GG04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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