研磨布

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-105110
公開番号（公開出願番号）：特開平10-277921
出願日： 1997年04月07日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】半導体基板、ハードディスク用基板の精密研磨に使用される研磨布の品質改良を目的とする。【解決手段】研磨布の研磨面に巾が0.1mm以上2.0mm以下で不連続で各々独立した形状の溝をつけた研磨布。

請求項（抜粋）：