特許
J-GLOBAL ID:200903051728094698
フォトニック構造を有する屈折率周期構造体の製造方法、及びそれを用いた光機能素子
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加藤 一男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-108788
公開番号(公開出願番号):特開2001-296442
出願日: 2000年04月11日
公開日(公表日): 2001年10月26日
要約:
【要約】【課題】光波長程度の周期を持ち無欠陥或いは欠陥のあるフォトニック構造体として使用し得る屈折率周期構造体、その応用機能素子、及びそれらの簡易な製造方法である。【解決手段】光波長程度の2次元周期性を持った凹凸構造を原盤2とし、スタンパ材料を堆積し剥離することにより凹凸構造の反転構造を有する型6を形成して、フォトニック構造体として使用し得るサイズでもって構成された光波長程度の2次元屈折率周期構造を得る。
請求項(抜粋):
光波長程度の2次元周期性を持った凹凸構造を原盤とし、スタンパ材料を堆積し剥離することにより前記凹凸構造の反転構造を有する型を形成して、フォトニック構造体として使用し得るサイズでもって構成された光波長程度の2次元屈折率周期構造を得ることを特徴とするフォトニック構造体の製造方法。
IPC (7件):
G02B 6/13
, G02B 6/12
, G02F 1/03 505
, G02F 1/09 505
, G02F 1/365
, H01L 31/0232
, H01S 5/02
FI (7件):
G02F 1/03 505
, G02F 1/09 505
, G02F 1/365
, H01S 5/02
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 F
, H01L 31/02 D
Fターム (27件):
2H047KA03
, 2H047KB08
, 2H047LA11
, 2H047LA18
, 2H047PA00
, 2H047RA08
, 2H047TA05
, 2H047TA43
, 2H047TA44
, 2H079AA02
, 2H079AA12
, 2H079DA02
, 2H079DA12
, 2K002BA01
, 2K002BA06
, 2K002BA11
, 2K002DA03
, 2K002HA02
, 2K002HA09
, 2K002HA13
, 5F073FA30
, 5F088AA01
, 5F088BB10
, 5F088JA14
, 5F088LA01
, 5F088LA03
, 5F088LA05
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る