特許
J-GLOBAL ID:200903051879355264

炭化水素を部分酸化して水素と一酸化炭素を製造する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-057738
公開番号(公開出願番号):特開2001-348207
出願日: 2001年03月02日
公開日(公表日): 2001年12月18日
要約:
【要約】【課題】 炭化水素を部分酸化して水素と一酸化炭素を製造するための方法において、部分酸化が低い開始温度で実施されて、高い生成物の収量が得られる方法を提供する。【解決手段】 炭化水素含有供給ガス及び酸素含有供給ガスの混合物を、セリアモノリス基板の上又は中に担持された触媒的に有効な量の還元された金属触媒であって、ニッケル、コバルト、鉄、白金、パラジウム、イリジウム、レニウム、ルテニウム、ロジウム、オスミウム及びこれらの組合せの群から選ばれる遷移金属又は貴金属から実質的に成る還元された金属触媒に1〜20気圧の間の圧力、50000〜500000/時間の供給ガスの標準ガス毎時空間速度、及び0.5〜5.0フィート/秒の線速度で接触させることを含む方法。
請求項(抜粋):
炭化水素を部分酸化して水素と一酸化炭素を製造する方法であって、炭化水素含有供給ガス及び酸素含有供給ガスの混合物を、セリアモノリス基板の上又は中に担持された触媒的に有効な量の還元された金属触媒であって、ニッケル、コバルト、鉄、白金、パラジウム、イリジウム、レニウム、ルテニウム、ロジウム、オスミウム及びこれらの組合せの群から選ばれる遷移金属又は貴金属から実質的に成る還元された金属触媒に1〜20気圧の間の圧力、50000〜500000/時間の供給ガスの標準ガス毎時空間速度、及び0.5〜5.0フィート/秒の線速度で接触させることを含む方法。
IPC (4件):
C01B 3/40 ,  B01J 23/63 ,  B01J 32/00 ,  B01J 37/16
FI (4件):
C01B 3/40 ,  B01J 32/00 ,  B01J 37/16 ,  B01J 23/56 301 M
Fターム (29件):
4G040EA03 ,  4G040EA07 ,  4G040EB16 ,  4G040EC02 ,  4G040EC03 ,  4G040EC04 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC64A ,  4G069BC66A ,  4G069BC67A ,  4G069BC68A ,  4G069BC69A ,  4G069BC71B ,  4G069CC04 ,  4G069DA06 ,  4G069EA19 ,  4G069EC27 ,  4G069FA02 ,  4G069FA03 ,  4G069FB14 ,  4G069FB23 ,  4G069FB44 ,  4G069FB77
引用特許:
審査官引用 (6件)
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