特許
J-GLOBAL ID:200903051972522588

プラズマ処理装置及びそのクリーニング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井内 龍二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-062307
公開番号(公開出願番号):特開平7-273092
出願日: 1994年03月31日
公開日(公表日): 1995年10月20日
要約:
【要約】【構成】 プラズマクリーニングによって反応室内のパーティクル、堆積物等の除去を行なうプラズマ処理装置のクリーニング方法において、前記反応室前段のローディング室に、処理すべき正規試料に加えてプラズマクリーニング時に試料台上に載置するための前記正規試料と同一形状のクリーニング用試料を装備しておくプラズマ処理装置のクリーニング方法。【効果】 正規処理試料のプラズマ処理後、反応室に供給するガスを成膜用のガスから腐食性のクリーニング用のフッ素系ガスに変更し、フッ素系ガスにより反応室のプラズマクリーニングが行なわれても、ヒータが埋設された試料台表面がダメージを受けることはなく、容易にクリーニングを行なうことができる。
請求項(抜粋):
試料が載置される試料台を備えたプラズマ処理を行うための反応室と、該反応室にあるいは該反応室から搬送される試料を真空状態に継時待機させるためのローディング室とを備えたプラズマ処理装置において、前記ローディング室内に正規試料と共に、予備試料を保持する試料保持手段を備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (3件):
H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 N ,  H01L 21/31 C
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 真空処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-222128   出願人:東京エレクトロン山梨株式会社
  • 真空処理装置およびその運転方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-234408   出願人:株式会社日立製作所
  • 特開平1-298180
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