特許
J-GLOBAL ID：200903051980947989
表面検査方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006242
公開番号（公開出願番号）：特開2000-206050
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：
【要約】【課題】 被検物体上に形成されている1種類、又は複数種類のパターンの欠陥等を確実に検出する。【解決手段】 異なるピッチのパターン23A,23Bが形成されたウエハ5がチルトステージ6上に保持されている。光源1〜凹面鏡4よりなる照明系によってウエハ5の表面にほぼ平行な照明光を入射角ψで照射し、ウエハ5の表面から反射角φで発生する回折光を凹面鏡12〜撮像素子15よりなる受光系で受光して、ウエハ5の像の画像データを得る。パターン23A,23Bのピッチに応じてチルトステージ6のチルト角Tを複数に切り換えてそれぞれ画像データを得ると共に、各チルト角での欠陥等の情報の論理和を求める。
請求項（抜粋）：
被検物体の表面に形成されたパターンの検査を行う表面検査方法であって、前記被検物体の表面に照明光を照射し、互いに異なる複数の回折条件でそれぞれ前記被検物体の表面からの回折光を検出し、該検出される複数の検出情報の論理和に基づいて前記被検物体の表面のパターンの検査を行うことを特徴とする表面検査方法。
Fターム (20件)：
2G051AA51
, 2G051AA73
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051AB07
, 2G051BA04
, 2G051BA08
, 2G051BB01
, 2G051BB09
, 2G051BB11
, 2G051BB17
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051CC07
, 2G051CC11
, 2G051DA08
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051FA01
