特許
J-GLOBAL ID：200903052011030721
真空ポンプ希釈剤をリサイクルしつつ半導体製造工程から出る排ガスからフッ素化化学薬品を分離回収する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-143140
公開番号（公開出願番号）：特開2000-325732
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造装置などの排ガスからのフッ素系化学薬品の回収。【解決手段】 希釈剤ガスとフッ素系化学薬品を含むガス流を、フッ素系化学薬品に比して、希釈剤ガスに対して選択的により透過性のある1又は複数の膜からなる、1又は2以上のステージ膜システムに最初に接触させて、希釈剤ガスの豊富な透過流と、フッ素系化学薬品の豊富な不透過物を生成し、その後、その不透過物を、蒸留又は吸着により精製して、フッ素系化学薬品の豊富化された製品流と精製希釈剤流を製造する。精製希釈剤流は、吸着装置の上流にリサイクルして吸着されたフッ素系化学薬品のパージ流として、及び/又は透過流と一体化して膜分離工程の上流で、真空ポンプへのリサイクル流として使用する。又原料ガス流を、冷温蒸留により豊富化された希釈剤流を蒸留工程の上流にリサイクルしながら、冷温蒸留によりフッ素系化学薬品の豊富化流と希釈剤豊富化流を製造できる。
請求項（抜粋）：
下記の工程を含む、希釈剤ガスとフッ素系化学薬品を含むガス流を、膜に接触させて、該ガス流からフッ素系化学薬品を分離回収する方法。(a)希釈剤ガスとフッ素系化学薬品を含むガス流を、ある上昇圧まで圧縮する工程、(b)希釈剤ガスとフッ素系化学薬品を含む前記ガス流を、工程(c)の透過流のフラックスを増加させ、又工程(c)におけるフッ素系化学薬品の透過に比ベて、工程(c)における希釈剤ガスの透過に対する、工程(c)の膜の選択性を増大させるのに十分なある上昇温度まで加熱する工程、(c)前記ガス流を1又は2以上のステージを含む膜システムと接触させて、希釈剤ガスの豊富な透過流とフッ素系化学薬品の豊富な不透過物を生成する工程、(d)前記不透過物を蒸留と吸着とからなる群から選択される方法により精製して、フッ素系化学薬品のより豊富な製品流と希釈剤ガスの豊富なリサイクル流を生成する工程、(e)前記透過流及び前記リサイクル流を、希釈剤ガスとフッ素系化学薬品を含む前記ガス流に合体される前記希釈剤ガスとして使用するために、リサイクルする工程であり、その合体流は、洗浄後に、工程(a)に供給して、上昇圧に圧縮する工程。
IPC (3件)：
B01D 53/22
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/68
B01D 53/22
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 134 C
4D002AA22
, 4D002AB01
, 4D002AC10
, 4D002BA02
, 4D002BA04
, 4D002BA12
, 4D002BA14
, 4D002BA20
, 4D002CA07
, 4D002CA13
, 4D002CA20
, 4D002DA41
, 4D002DA45
, 4D002EA02
, 4D002EA08
, 4D002FA01
, 4D002GA01
, 4D002GA03
, 4D002GB02
, 4D002GB03
, 4D002GB04
, 4D002HA01
, 4D006GA41
, 4D006JA58A
, 4D006KA02
, 4D006KA16
, 4D006KA51
, 4D006KA54
, 4D006KA71
, 4D006KB12
, 4D006KB14
, 4D006KB18
, 4D006KB19
, 4D006KE07R
, 4D006KE08Q
, 4D006KE12P
, 4D006KE13P
, 4D006KE14P
, 4D006KE16R
, 4D006MA01
, 4D006MA03
, 4D006MC17
, 4D006MC18
, 4D006MC22
, 4D006MC23
, 4D006MC28
, 4D006MC54
, 4D006MC58
, 4D006MC59
, 4D006MC62
, 4D006MC65
, 4D006MC84
, 4D006PA03
, 4D006PB19
, 4D006PB63
, 4D006PB70
, 4D006PC01
