特許
J-GLOBAL ID:200903052060967267

水系処理液の塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 清水 善▲廣▼ (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-143260
公開番号(公開出願番号):特開2003-332162
出願日: 2002年05月17日
公開日(公表日): 2003年11月21日
要約:
【要約】【課題】 板状希土類系永久磁石個片の表面への水系処理液の塗布を低コストで均一に行うための方法を提供すること。【解決手段】 水平方向に搬送される板状希土類系永久磁石個片を収容した金網製ホルダに対し、その上方および下方から、(a)水系処理液の塗布、(b)噴射圧0.01MPa〜0.1MPaでの第1ガスワイピング、(c)第1ガスワイピングの噴射圧よりも高い噴射圧での第2ガスワイピング、を順に行い、金網製ホルダに収容した板状希土類系永久磁石個片の表面に所定付着量の塗膜を形成することを特徴とする。
請求項(抜粋):
水平方向に搬送される板状希土類系永久磁石個片を収容した金網製ホルダに対し、その上方および下方から、(a)水系処理液の塗布、(b)噴射圧0.01MPa〜0.1MPaでの第1ガスワイピング、(c)第1ガスワイピングの噴射圧よりも高い噴射圧での第2ガスワイピング、を順に行い、金網製ホルダに収容した板状希土類系永久磁石個片の表面に所定付着量の塗膜を形成することを特徴とする水系処理液の塗布方法。
IPC (4件):
H01F 41/02 ,  B05C 11/06 ,  B05D 7/00 ,  B05D 7/14
FI (4件):
H01F 41/02 G ,  B05C 11/06 ,  B05D 7/00 K ,  B05D 7/14 D
Fターム (28件):
4D075AA01 ,  4D075AA52 ,  4D075AA58 ,  4D075AA65 ,  4D075AA82 ,  4D075AA84 ,  4D075AA85 ,  4D075BB57Z ,  4D075BB73Y ,  4D075BB92Z ,  4D075BB95Z ,  4D075CA33 ,  4D075DA11 ,  4D075DB01 ,  4D075DC19 ,  4D075EA06 ,  4D075EA07 ,  4D075EB02 ,  4F042AA06 ,  4F042BA04 ,  4F042BA06 ,  4F042BA10 ,  4F042BA25 ,  4F042DD02 ,  4F042DD34 ,  4F042DD45 ,  4F042DF19 ,  5E062CG07
引用特許:
審査官引用 (6件)
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