特許
J-GLOBAL ID：200903052256444840

永久レジスト組成物、その硬化生成物、及びその使用

発明者：
ウェバー、ウィリアム

ウェバー、ウィリアム について

, 
森 哲

森 哲 について

, 
本田 那央

本田 那央 について

, 
ジョンソン、ドナルド

ジョンソン、ドナルド について

, 
ドケント、マニュエル

ドケント、マニュエル について


出願人/特許権者：
マイクロケム コーポレイション

マイクロケム コーポレイション について

, 
日本化薬株式会社

日本化薬株式会社 について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  安藤 克則 ,  池田 幸弘
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-553295
公開番号（公開出願番号）：特表2007-522531
出願日： 2005年02月10日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
永久フォトレジスト組成物であって、(A)式Iによる1種又は複数のビスフェノールA-ノボラックエポキシ樹脂(ただし、式I中の各基Rはグリシジル又は水素から個別に選択され、式I中のkは0〜約30の範囲にある実数である)と、(B)式BIIa及びBIIbにより表される群から選択される1種又は複数のエポキシ樹脂(式中、式BIIaにおける各R1、R2、及びR3は、水素、又は炭素原子1〜4個を有するアルキル基からなる群より独立に選択され、式BIIa中のpの値は1〜30の範囲にある実数であり;式BIIb中のn及びmの値は独立に1〜30の範囲にある実数であり、式BIIb中の各R4、及びR5は、水素、炭素原子1〜4個を有するアルキル基、又はトリフルオロメチルからなる群より独立に選択される)と、(C)1種又は複数のカチオン性光開始剤(光酸発生剤又はPAGとしても知られる)と、(D)1種又は複数の溶媒とを含む組成物。
請求項（抜粋）：
永久フォトレジスト組成物であって、 (A)式Iによる1種又は複数のビスフェノールA-ノボラックエポキシ樹脂;
IPC (10件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  C08G 59/68 ,  C08G 59/14 ,  B81C 1/00 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/16
FI (10件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/38 511 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08G59/68 ,  C08G59/14 ,  B81C1/00 ,  B41J3/04 103A ,  B41J3/04 103H
Fターム (50件)：
2C057AF70 ,  2C057AF93 ,  2C057AP47 ,  2C057AQ04 ,  2C057BA03 ,  2H025AB11 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BD03 ,  2H025BD23 ,  2H025BE00 ,  2H025CC06 ,  2H025CC08 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096BA06 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096FA01 ,  2H096HA01 ,  2H096JA03 ,  2H096JA04 ,  4J036AA04 ,  4J036AA05 ,  4J036AA06 ,  4J036AB02 ,  4J036AD08 ,  4J036AE05 ,  4J036AF19 ,  4J036AF27 ,  4J036CA28 ,  4J036GA22 ,  4J036GA24 ,  4J036HA01 ,  4J036JA09
引用特許：
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示
引用文献：
出願人引用 (1件)
  • ジャパンエポキシレジン株式会社HP
審査官引用 (1件)
  • ジャパンエポキシレジン株式会社HP

前のページに戻る

TOP

BOTTOM