特許

J-GLOBAL ID：200903052310022522

基板洗浄装置

発明者： 小林 茂樹
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-162101
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363453
出願日： 2003年06月06日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板Wを保持しながら回転させるとともに、超音波振動が付与された洗浄液をノズル30より基板に供給して基板の洗浄を行う基板洗浄装置10である。ノズル30を支持して基板Wの表面及び基板の端縁部に沿って移動させるノズル移動手段14と、ノズル移動手段14に角度調整自在に装備され、ノズル30の軸線と基板Wの表面及び基板Wの端縁部に対するノズルの傾斜角度を一定に維持させる傾斜角度調整手段16とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板を保持しながら回転させるとともに、超音波振動が付与された洗浄液をノズルより該基板に供給して該基板の洗浄を行う基板洗浄装置であって、 前記ノズルを支持して前記基板の表面及び前記基板の端縁部に沿って移動させるノズル移動手段と、 前記ノズル移動手段に角度調整自在に装備され、前記基板の表面及び前記基板の端縁部に対する前記ノズルの傾斜角度を一定に維持させる傾斜角度調整手段と、 を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  B08B3/12

FI (7件)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643D ,  B08B3/02 B ,  B08B3/02 D ,  B08B3/02 G ,  B08B3/12 C

Fターム (7件)：

3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB47 ,  3B201BB22 ,  3B201BB44 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-297186
  
• ウェーハ端部清浄化方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-310317   出願人：ワイエイシイ株式会社
• 基板洗浄方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-304986   出願人：大日本スクリーン製造株式会社