特許
J-GLOBAL ID：200903064184663639

基板洗浄方法およびその装置

発明者：
佐藤 雅伸

佐藤 雅伸 について

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平得 貞雄

平得 貞雄 について

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安田 周一

安田 周一 について

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平岡 伸康

平岡 伸康 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-304986
公開番号（公開出願番号）：特開2002-113429
出願日： 2000年10月04日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：
【要約】【課題】 基板面内の全面にわたって均一に洗浄処理を施す基板洗浄方法および装置を提供する。【解決手段】 ノズル7から基板面内に供給される混合物Kを組成する空気や液体、または物理的な作用により洗浄効果に起因する複数の因子のそれぞれがコントローラ20を介して各機構部により制御される。つまり、基板面内の混合物Kを供給する位置に応じて混合物Kの供給量や、混合物Kが基板面に衝突する衝突レベルのそれぞれが調整される。これにより、基板の回転に伴うノズル7に対する相対速度に関係なく、基板の全面にわたって均一に洗浄処理を施すことができる。
請求項（抜粋）：
回転している基板に対して、気体と液体の混合物をノズルから吐出させ、その吐出された混合物の基板面内における供給位置が、基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記ノズルを移動手段により移動させて洗浄処理を施す基板洗浄方法において、前記混合物が基板面内に吐出されたときに、洗浄度合いに起因する複数の因子のうち少なくともいずれか一つを、基板面内における混合物の供給位置に応じて変化させるようにしたことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (6件)：
B08B 3/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 648
FI (6件)：
B08B 3/02 C ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 648 G
Fターム (19件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB23 ,  3B201BB45 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  3B201CC13 ,  3B201CC21 ,  3B201CD31
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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