特許

J-GLOBAL ID：200903052362440063

エッチング方法並びにナノデバイスの作製方法

発明者： 八井 崇 ,  崔 允辰 ,  興梠 元伸 ,  大津 元一
出願人/特許権者： 独立行政法人 科学技術振興機構
代理人 (1件)： 小池 晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-338337
公開番号（公開出願番号）：特開2004-172482
出願日： 2002年11月21日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】光湿式化学エッチングする領域をナノスケールオーダで自在に選択する。【解決手段】エッチング溶液を試料3と接触させることにより、光湿式化学エッチングを進行させつつ、光の偏光方向を1/2波長板14により制御してこれを試料3表面へ照射することにより、光湿式化学エッチングする領域をナノスケールオーダで自在に選択する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

エッチング溶液により試料表面に対して光湿式化学エッチングするエッチング方法において、 上記試料表面へ光を照射し、 上記照射する光の偏光方向を制御すること を特徴とするエッチング方法。

IPC (2件)：

H01L21/306 ,  B81C1/00

FI (2件)：

H01L21/306 B ,  B81C1/00

Fターム (2件)：

5F043DD08 ,  5F043DD14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-165428
  
• 特開平3-094986
  
• 光励起電解研磨法による貫通孔形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-012502   出願人：株式会社フジクラ
• 特開昭60-160129