パターン形成材料及びパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-117685
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305736
出願日： 2000年04月19日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：

【要約】【課題】露光光として1nm帯〜30nm帯又は110nm帯〜180nm帯の波長を持つ露光光を用いてレジストパターンを形成する場合に、スカムを殆ど発生させることなく、良好なパターン形状を有するレジストパターンが得られるようにする。【解決方法】パターン形成材料のベース樹脂は、アクリルユニットの主鎖中の炭素原子であってエステル部位に結合している炭素原子に、塩素原子又は塩素化されたアルキル基が結合しているアクリル系樹脂からなる。

請求項（抜粋）：

アクリルユニットの主鎖中の炭素原子であってエステル部位に結合している炭素原子に、塩素原子又は塩素化されたアルキル基が結合しているアクリル系樹脂からなるベース樹脂を有するパターン形成材料。

IPC (8件)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/22 , C08F 20/24 , C08K 5/00 , C08L 33/16 , G03F 7/033 , G03F 7/20 502 , H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/22 , C08F 20/24 , C08K 5/00 , C08L 33/16 , G03F 7/033 , G03F 7/20 502 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 515 B

Fターム (33件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BF08 , 2H025BF09 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 2H097BA06 , 2H097CA13 , 2H097FA03 , 2H097JA03 , 2H097LA10 , 4J002BG071 , 4J002EV296 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J100AL24P , 4J100AL26P , 4J100BA11P , 4J100BC09P , 4J100BC53P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100JA37 , 4J100JA38 , 5F046CA07

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平2-293850
ポジ型感放射線性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-323894 出願人：東レ株式会社
特開昭63-271249

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