特許
J-GLOBAL ID:200903052444750303

エッチング処理状態の判定方法、システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人湘洋内外特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-098111
公開番号(公開出願番号):特開2009-252945
出願日: 2008年04月04日
公開日(公表日): 2009年10月29日
要約:
【課題】物質を想定することなく、簡易な方法で、エッチング処理の際の発光スペクトル分布から、エッチング処理の状態(異常、正常)を検出する。【解決手段】複数のウエハのエッチング処理中の発光をモニタした発光スペクトル分布を取得するスペクトルデータ取得ステップと、エッチング処理中の特定の時点における、発光スペクトル分布から、ピークを検出し、ピーク特徴量を求めるピーク検出ステップと、記ピーク検出ステップで検出したピークの中から、ウエハ間で共通のピークを特定する共通ピーク特定ステップと、共通のピークについて、特徴量を比較して、エッチング処理におけるウエハごとの状態を検出する状態検出ステップと、を有することを特徴とするエッチング処理状態の判定方法。【選択図】 図9
請求項(抜粋):
複数のウエハのエッチング処理中の発光をモニタした発光スペクトル分布を取得するスペクトルデータ取得ステップと、 エッチング処理中の特定の時点における、前記発光スペクトル分布から、ピークを検出し、ピーク特徴量を求めるピーク検出ステップと、 前記ピーク検出ステップで検出したピークの中から、ウエハ間で共通のピークを特定する共通ピーク特定ステップと、 共通のピークについて、特徴量を比較して、エッチング処理におけるウエハごとの状態を検出する状態検出ステップと、 を有することを特徴とするエッチング処理状態の判定方法。
IPC (1件):
H01L 21/306
FI (1件):
H01L21/302 103
Fターム (2件):
5F004CA08 ,  5F004CB02
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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