特許
J-GLOBAL ID:200903026432956800

時分割多重プロセスにおける包絡線フォロア終点検出

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  安藤 克則 ,  池田 幸弘
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-532855
公開番号(公開出願番号):特表2007-501532
出願日: 2004年05月06日
公開日(公表日): 2007年01月25日
要約:
本発明は、交互の周期的な、エッチングプロセス又は時分割多重プロセスの際に、終点を決定するための方法及び装置を提供する。基板がプラズマチャンバ中に置かれ、エッチングステップ及び堆積ステップを有する交互の周期的なプロセスにかけられる。プラズマ発光強度の変動が、既知の発光分析技法を用いてモニタリングされる。包絡線フォロアアルゴリズムを用いて、振幅情報が、プラズマ発光強度の複雑な波形から抽出される。この交互の周期的なプロセスは、終点がモニタリングステップに基づいた時間に到達すると停止される。
請求項(抜粋):
基板中のフィーチャをエッチングする方法であって、 前記基板をプラズマチャンバ内で交互のプロセスにかけるステップと、 プラズマ発光強度の変動をモニタリングするステップと、 包絡線フォロアアルゴリズムを用いて前記プラズマ発光強度から振幅情報を抽出するステップと、 前記モニタリングステップに基づいた時間に前記交互のプロセスを停止するステップとを含む、方法。
IPC (1件):
H01L 21/306
FI (1件):
H01L21/302 105A
Fターム (8件):
5F004CB02 ,  5F004DA00 ,  5F004DA18 ,  5F004DA23 ,  5F004DB01 ,  5F004DB19 ,  5F004EA13 ,  5F004EA28
引用特許:
審査官引用 (7件)
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