特許
J-GLOBAL ID:200903052612196040
ゾルゲル法による反射防止物品及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-150124
公開番号(公開出願番号):特開2003-340844
出願日: 2002年05月24日
公開日(公表日): 2003年12月02日
要約:
【要約】【課題】 光反射防止用の微細凹凸を耐久性良く設けた反射防止物品を製造する。【解決手段】 基材1表面に微細凹凸2を有する微細凹凸層3を形成して反射防止物品を製造する為に、(A)微細凹凸形状を造形した原型を用意し、(B)賦形型として原型を用いるか、或いは原型表面の微細凹凸形状を1又は2回以上の型取・反転による複製にて作製した複製型を用いて、基材上に塗布形成した有機金属化合物を含むゾルゲル液の塗布膜に、賦形型を押圧して塗布膜の表面に微細凹凸を賦形して微細凹凸層とする。適宜更に焼成する。微細凹凸2の形状は、微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXを、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長λMIN以下、水平断面内での基材材料部分の断面積占有率が、微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な形状とする。
請求項(抜粋):
表面に反射防止用の微細凹凸を有する微細凹凸層が基材上に形成されて成る反射防止物品を製造する方法であって、上記微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXとしたときに、PMAX≦λMINなる関係を有し、且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、上記反射防止物品を製造する際に工程として順次、(A)先ず、微細凹凸形状を造形した原型を用意し、(B)次いで、賦形型として上記原型を用いるか、或いは、上記原型の表面の微細凹凸形状を1又は2回以上の型取・反転による複製を経て複製型を作製して該複製型を用いて、基材上に塗布形成した有機金属化合物を含むゾルゲル液の塗布膜に対して、前記賦形型を押圧後、離型して、該塗布膜の表面に微細凹凸を賦形して微細凹凸層とする、各工程を行う、ゾルゲル法による反射防止物品の製造方法。
IPC (8件):
B29C 39/10 ZEC
, B29C 39/26
, B32B 7/02 103
, G02B 1/10
, G02B 5/02
, G02F 1/1335
, B29L 7:00
, B29L 11:00
FI (8件):
B29C 39/10 ZEC
, B29C 39/26
, B32B 7/02 103
, G02B 5/02 C
, G02F 1/1335
, B29L 7:00
, B29L 11:00
, G02B 1/10 Z
Fターム (64件):
2H042BA04
, 2H042BA13
, 2H042BA15
, 2H042BA16
, 2H091FA37X
, 2H091FB02
, 2H091FB08
, 2H091FC19
, 2H091FC25
, 2H091FD06
, 2H091FD23
, 2K009AA04
, 2K009BB02
, 2K009BB11
, 2K009CC02
, 2K009CC21
, 2K009DD02
, 2K009DD06
, 2K009DD11
, 4F100AA01A
, 4F100AA20
, 4F100AH08A
, 4F100AK42
, 4F100AT00B
, 4F100BA02
, 4F100DD07B
, 4F100GB41
, 4F100JL02
, 4F100JL09
, 4F100JM01A
, 4F100JM10A
, 4F100JN06A
, 4F202AB19
, 4F202AC06
, 4F202AF01
, 4F202AG01
, 4F202AG05
, 4F202AH73
, 4F202CA01
, 4F202CB01
, 4F202CD04
, 4F202CD05
, 4F202CK11
, 4F204AA33
, 4F204AA36
, 4F204AB01
, 4F204AB03
, 4F204AC06
, 4F204AG01
, 4F204AG05
, 4F204AH73
, 4F204AH78
, 4F204EA03
, 4F204EA04
, 4F204EB01
, 4F204EB29
, 4F204EE02
, 4F204EE21
, 4F204EE23
, 4F204EF27
, 4F204EK10
, 4F204EK13
, 4F204EK17
, 4F204EK24
引用特許:
前のページに戻る