特許
J-GLOBAL ID：200903052836094099

基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者：
大谷 正美

大谷 正美 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-183568
公開番号（公開出願番号）：特開2001-009388
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：
【要約】【課題】基板表面に付着したパーティクルを良好に除去できる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】回転保持手段22保持された基板Wの洗浄面を洗浄具45が水平移動して洗浄する。制御部9は洗浄工程の繰り返しを制御し、各洗浄工程において押圧荷重設定器92によって設定された押圧力に応じて操作ロッド66を昇降してその高さ位置で洗浄具45による押圧力を変更する。すなわち、最初の押圧力による洗浄工程で除去されなかったパーティクルを除去すべく、異なる押圧力の洗浄工程で洗浄が繰り返される。その結果、基板W表面に付着したパーティクルに作用する洗浄力は、洗浄工程ごとに洗浄状態が異なるため、各種のパーティクルを基板表面から除去することができる。
請求項（抜粋）：
基板を洗浄する基板洗浄装置であって、基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持し回転させる回転保持手段と、前記基板表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記回転保持手段に保持された基板の洗浄面を洗浄する洗浄具と、前記洗浄具が保持され基板の洗浄面に対して所定の押圧力を付与する押圧手段と、保持された基板の洗浄面に沿わせて前記洗浄具を水平移動させる洗浄具移動手段と、前記押圧手段を自動的に作動して前記洗浄具を前記基板に対して昇降し押圧力を可変とする押圧力制御機構と、前記洗浄具移動手段による洗浄工程の繰り返しを制御する制御手段と、を具備し、前記制御手段は押圧力制御機構を制御して異なる押圧力で洗浄工程を繰り返すことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (5件)：
B08B 1/04 ,  G02F 1/13 101 ,  G11B 7/26 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304
FI (5件)：
B08B 1/04 ,  G02F 1/13 101 ,  G11B 7/26 ,  H01L 21/304 644 B ,  H01L 21/304 644 C
Fターム (17件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  3B116AA03 ,  3B116AB01 ,  3B116AB34 ,  3B116AB44 ,  3B116AB47 ,  3B116BA02 ,  3B116BA13 ,  3B116BB22 ,  3B116CD23 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  5D121AA02 ,  5D121GG18 ,  5D121GG28
引用特許：
審査官引用 (3件)

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