特許
J-GLOBAL ID:200903052840338229
粘接着シート、これを用いて製造される半導体装置及び半導体装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 赤堀 龍吾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-104040
公開番号(公開出願番号):特開2008-101183
出願日: 2007年04月11日
公開日(公表日): 2008年05月01日
要約:
【課題】ダイシング・ダイボンディングテープとして優れた機能を発揮できるとともに、半導体装置の製造過程において熱が加えられても粘接着剤層が十分な流動性を維持できる粘接着シートを提供すること。【解決手段】本発明の粘接着シート1は、表面自由エネルギーが50mN/m以下の支持基材10及び粘接着剤層20を備える。粘接着剤層20は、(A)分子量が60万以上100万以下の高分子量成分、(B)分子量が10万以上60万未満の高分子量成分、(C)エポキシ樹脂、(D)フェノール系エポキシ樹脂硬化剤、(E)紫外線照射により得られる硬化物のガラス転移温度が250°C以上である光反応性モノマー、及び(F)紫外線照射により塩基とラジカルを発生する光開始剤を含有し、(A)成分の含有量WA(質量%)及び(B)成分の含有量WB(質量%)はWA≧WBの条件を満たす。【選択図】図1
請求項(抜粋):
表面自由エネルギーが50mN/m以下の支持基材と、該支持基材上に設けられた粘接着剤層と、を備える粘接着シートであって、
前記粘接着剤層は、
(A)官能基を含む重量平均分子量が60万以上100万以下である第1の高分子量成分、
(B)官能基を含む重量平均分子量が10万以上60万未満である第2の高分子量成分、
(C)エポキシ樹脂、
(D)フェノール系エポキシ樹脂硬化剤、
(E)紫外線照射により得られる硬化物のガラス転移温度が250°C以上である光反応性モノマー、及び、
(F)波長200〜450nmの紫外線照射により塩基とラジカルとを発生する光開始剤、
を含有するものであり、
前記粘接着剤層における前記(A)第1の高分子量成分の含有量WA(質量%)及び前記(B)第2の高分子量成分の含有量WB(質量%)は下記式(I)で表される条件を満たすことを特徴とする粘接着シート。
WA≧WB ... (I)
IPC (6件):
C09J 7/02
, H01L 21/301
, H01L 21/52
, C09J 163/00
, C09J 4/00
, C09J 133/00
FI (6件):
C09J7/02 Z
, H01L21/78 M
, H01L21/52 E
, C09J163/00
, C09J4/00
, C09J133/00
Fターム (52件):
4J004AA10
, 4J004AA11
, 4J004AA13
, 4J004AB05
, 4J004AB06
, 4J004CA03
, 4J004CA04
, 4J004CA06
, 4J004CC02
, 4J004DB02
, 4J004EA06
, 4J004FA05
, 4J004FA08
, 4J040DF002
, 4J040DF07
, 4J040EB032
, 4J040EC002
, 4J040EC06
, 4J040FA131
, 4J040GA01
, 4J040GA05
, 4J040GA07
, 4J040GA11
, 4J040GA24
, 4J040HA136
, 4J040HA196
, 4J040HA206
, 4J040HA296
, 4J040HB02
, 4J040HB18
, 4J040HD30
, 4J040JA02
, 4J040JA09
, 4J040JB02
, 4J040JB07
, 4J040KA13
, 4J040KA16
, 4J040KA23
, 4J040KA26
, 4J040KA42
, 4J040LA06
, 4J040LA08
, 4J040MB03
, 4J040NA19
, 4J040NA20
, 4J040PA23
, 4J040PA30
, 4J040PA32
, 5F047BA24
, 5F047BA35
, 5F047BA36
, 5F047BB19
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (1件)
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ポリマーブレンド
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-040056
出願人:バイヤースドルフ・アクチエンゲゼルシヤフト
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