特許
J-GLOBAL ID：200903052901117131
カーボンナノチューブパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
中村 智廣
, 成瀬 勝夫
, 小泉 雅裕
, 青谷 一雄
, 鳥野 正司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-255667
公開番号（公開出願番号）：特開2006-069848
出願日： 2004年09月02日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：
【課題】 機械的強度が強く、下地層や基板との密着性が高く、表面で導電性をもち、さらに下地層や基板との間でも導電性をもつ、カーボンナノチューブパターンを容易に形成する方法を提供する。【解決手段】 カーボンナノチューブが分散媒に分散したカーボンナノチューブ分散液にて基板表面に所望のパターンを印刷し、分散媒を蒸発させてパターン層を形成するパターニング工程と、パターン層を基板表面に固定するパターン固定工程とを含むことを特徴とするカーボンナノチューブパターンの形成方法。パターン固定工程は、感光性有機材料をパターン層内に含浸させる工程と、感光性有機材料が含浸したパターン層を露光する工程と、パターン層表面の感光性有機材料を除去してカーボンナノチューブをパターン層表面に露出させる工程と、パターン層内部の感光性有機材料を硬化させる工程と、を含むことが好ましい。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
カーボンナノチューブが分散媒に分散したカーボンナノチューブ分散液にて基板表面に所望のパターンを印刷し、前記分散媒を蒸発させてパターン層を形成するパターニング工程と、前記パターン層を前記基板表面に固定するパターン固定工程とを含むことを特徴とするカーボンナノチューブパターンの形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B31/02 101F
, H01B13/00 503D
4G146AA11
, 4G146AB07
, 4G146AC02B
, 4G146AC20B
, 4G146AC23B
, 4G146AD15
, 4G146AD22
, 4G146AD26
, 4G146AD28
, 4G146BA04
, 4G146CB02
, 4G146CB06
, 4G146CB10
, 4G146CB11
, 4G146CB13
, 4G146CB14
, 4G146CB23
, 4G146CB35
, 4G146CB37
, 5G323CA05
, 5H027AA02
, 5H027BA13
, 5H050CB07
, 5H050DA10
, 5H050EA08
, 5H050FA16
