高分子光導波路の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：谷義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-224410
公開番号（公開出願番号）：特開2000-056147
出願日： 1998年08月07日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】フォトプロセスとRIEの工程を用いず、極めて安価で耐熱性すぐれた高分子光導波路の製造方法を提供。【解決手段】基板と、該基板上に形成されたクラッド層と、該クラッド層上に形成されたコアとを少なくとも有する高分子光導波路の製造方法であって、クラッド層は、該基板上に高分子膜を形成する工程と、高分子膜のガラス転移温度以上かつ熱分解開始温度以下の温度で高分子膜を加熱保持し、金型を用いて高分子膜を押圧することで高分子膜上に凹部分または凸部分を形成する工程とによって形成されることを特徴とする。好ましくは、高分子膜はポリイミド膜、特に好ましくはフッ素化ポリイミド膜である。

請求項（抜粋）：

基板と、該基板上に形成されたクラッド層と、該クラッド層上に形成されたコアとを少なくとも有する高分子光導波路の製造方法であって、前記クラッド層は、前記基板上に高分子膜を形成する工程と、前記高分子膜のガラス転移温度以上かつ熱分解開始温度以下の温度で、前記高分子膜を加熱保持し、金型を用いて前記高分子膜を押圧することで前記高分子膜上に凹部分または凸部分を形成する工程と、によって形成されることを特徴とする高分子光導波路の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (2件)：

G02B 6/12 N , G02B 6/12 M

Fターム (5件)：

2H047AA03 , 2H047EE02 , 2H047EE24 , 2H047EE28 , 2H047GG05

引用特許：

審査官引用 (10件)

光導波路及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-260333 出願人：日立電線株式会社
特開昭63-139304
特開昭64-026806

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