特許
J-GLOBAL ID:200903052933528044
真空紫外線用光学材料
発明者:
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出願人/特許権者:
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公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-252183
公開番号(公開出願番号):特開2000-086259
出願日: 1998年09月07日
公開日(公表日): 2000年03月28日
要約:
【要約】【構成】本願発明の目的は、紫外線の照射を続けても、欠陥の発生が一定量にとどまり、紫外線の透過率の経時低下がない真空紫外線用光学材料を提供することにある。【解決手段】四塩化ケイ素に代表される高純度原料を用いて製造される合成シリカガラスからなり、OH基含有量が30〜70ppm、Cl濃度が1ppm未満であり、アルカリおよびアルカリ土類金属、遷移金属、その他の金属不純物濃度は各元素が10ppb未満、それらの合計量が50ppb以下であり、波長160〜300nmの紫外線を照射し続けても172〜200nmにおける透過率が40%以上である真空紫外線用光学材料。
請求項(抜粋):
四塩化ケイ素に代表される高純度原料を用いて製造される合成シリカガラスからなり、OH基含有量が30〜70ppm、Cl濃度が1ppm未満であり、アルカリおよびアルカリ土類金属、遷移金属、その他の金属不純物濃度は各元素が10ppb未満、それらの合計量が50ppb以下であり、波長160〜300nmの紫外線を照射し続けても172〜200nmにおける透過率が40%以上である真空紫外線用光学材料。
IPC (3件):
C03B 20/00
, C03C 3/06
, G02B 1/00
FI (4件):
C03B 20/00 F
, C03B 20/00 K
, C03C 3/06
, G02B 1/00
Fターム (58件):
4G014AH15
, 4G014AH23
, 4G062AA04
, 4G062AA11
, 4G062BB20
, 4G062DA01
, 4G062DA10
, 4G062DB01
, 4G062DC01
, 4G062DD01
, 4G062DE01
, 4G062DF01
, 4G062EA01
, 4G062EA10
, 4G062EB01
, 4G062EC01
, 4G062ED01
, 4G062EE01
, 4G062EF01
, 4G062EG01
, 4G062FA01
, 4G062FA10
, 4G062FB01
, 4G062FC01
, 4G062FD01
, 4G062FE01
, 4G062FF01
, 4G062FG01
, 4G062FH01
, 4G062FJ01
, 4G062FK01
, 4G062FL01
, 4G062GA01
, 4G062GA10
, 4G062GB01
, 4G062GC01
, 4G062GD01
, 4G062GE01
, 4G062HH01
, 4G062HH03
, 4G062HH05
, 4G062HH07
, 4G062HH09
, 4G062HH11
, 4G062HH13
, 4G062HH15
, 4G062HH17
, 4G062JJ01
, 4G062JJ03
, 4G062JJ05
, 4G062JJ06
, 4G062JJ07
, 4G062KK01
, 4G062KK03
, 4G062KK05
, 4G062KK07
, 4G062MM02
, 4G062NN16
引用特許: