特許

J-GLOBAL ID：200903052940232916

酸化物セラミックスパターン化膜の製造方法

発明者： 齋藤 紀子 ,  羽田 肇 ,  河本 邦仁
出願人/特許権者： 独立行政法人物質・材料研究機構
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-289780
公開番号（公開出願番号）：特開2003-096574
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：

【要約】【課題】 パターン化自己組織膜をテンプレートとし、その上に選択的に酸化物セラミックスを成長させる方法で、酸化物セラミックスパターン膜を製造する方法の開発。【構成】 基板上に形成した有機シラン膜に触媒金属がよく付着する表面官能基と付着しにくい表面官能基により形成したパターン化自己組織膜をテンプレートとし、ボランアミンコンプレックスを用いた硝酸イオン還元による無電解析出法で触媒金属がよく付着する表面官能基部分に金属の酸化物膜を析出させて酸化物セラミックスパターン化膜を製造する。酸化物膜の代わりに水酸化物膜を析出させて、これを酸化雰囲気で加熱して酸化物セラミックスパターン化膜を製造してもよい。

請求項（抜粋）：

基板上に形成した有機シラン膜に触媒金属がよく付着する表面官能基と付着しにくい表面官能基により形成したパターン化自己組織膜をテンプレートとし、ボランアミンコンプレックスを用いた硝酸イオン還元による無電解析出法で触媒金属がよく付着する表面官能基部分に金属の酸化物膜を析出させることを特徴とする酸化物セラミックスパターン化膜の製造方法。

IPC (3件)：

C23C 18/18 ,  C23C 18/16 ,  G03F 7/40 521

FI (3件)：

C23C 18/18 ,  C23C 18/16 B ,  G03F 7/40 521

Fターム (21件)：

2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096HA27 ,  2H096HA30 ,  4K022AA04 ,  4K022AA05 ,  4K022AA43 ,  4K022AA44 ,  4K022BA09 ,  4K022BA15 ,  4K022BA18 ,  4K022BA33 ,  4K022BA35 ,  4K022CA05 ,  4K022CA06 ,  4K022CA21 ,  4K022CA22 ,  4K022DA01 ,  4K022DB03 ,  4K022DB04 ,  4K022EA01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-323894   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 配線の形成方法及び配線基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-047941   出願人：富士通株式会社
• 特開平3-024279
  

審査官引用 (4件)

• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-323894   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 配線の形成方法及び配線基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-047941   出願人：富士通株式会社
• 特開平3-024279
  
• 特開平3-024279