特許
J-GLOBAL ID：200903053030597798

洗浄剤

発明者：
坂井 隆也

坂井 隆也 について

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久保 誠

久保 誠 について

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寺▲崎▼ 博幸

寺▲崎▼ 博幸 について

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鐵 真希男

鐵 真希男 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-327072
公開番号（公開出願番号）：特開2000-144182
出願日： 1998年11月17日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 温水を用いないで特に油性汚れに対する良好な洗浄力を示す洗浄剤の提供。【解決手段】 下記(a) 成分及び(b) 成分を含有し、(a) 成分と(b) 成分の合計含有量が1〜75重量%、(a) 成分と(b) 成分の重量比が、(a)/(b)=99/1〜50/50である洗浄剤。(a) 陰イオン界面活性剤(b) 一般式(I)で表される4級アンモニウム塩【化1】〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を示す。R2、R3及びR4はそれぞれ炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基、ベンジル基又は-(CH2CH2O)nH (nは1〜10の数)を示すが、これらの2つ以上が同時にベンジル基であることはない。X- は陰イオンを示す。〕
請求項（抜粋）：
下記(a) 成分及び(b) 成分を含有し、(a) 成分と(b) 成分の合計含有量が1〜75重量%、(a) 成分と(b) 成分の重量比が、(a)/(b)=99/1〜50/50である洗浄剤。(a) 陰イオン界面活性剤(b) 一般式(I)で表される4級アンモニウム塩【化1】〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を示す。R2、R3及びR4はそれぞれ炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基、ベンジル基又は-(CH2CH2O)nH (nは1〜10の数)を示すが、これらの2つ以上が同時にベンジル基であることはない。X- は陰イオンを示す。〕
IPC (2件)：
C11D 3/26 ,  C11D 10/02
FI (2件)：
C11D 3/26 ,  C11D 10/02
Fターム (17件)：
4H003AB03 ,  4H003AB19 ,  4H003AB27 ,  4H003AC08 ,  4H003BA09 ,  4H003DA01 ,  4H003DB02 ,  4H003EA12 ,  4H003EA15 ,  4H003EA16 ,  4H003EA25 ,  4H003EA28 ,  4H003EB19 ,  4H003EB30 ,  4H003EB32 ,  4H003EC01 ,  4H003FA04
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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