特許
J-GLOBAL ID：200903053065151202
レーザー修正装置及びフォトマスク欠陥保証方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-144001
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330261
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【課題】フォトマスクの黒系欠陥の除去修正を行うレーザー修正装置において、フォトマスク欠陥の修正部分の露光転写性を定量的に評価し、良否判定を正確に行うことのできるレーザー修正装置および欠陥保証方法を提供する。【解決手段】欠陥部分を含む所定領域の画像データを変換して、所定の露光条件を用いてマスクパターンをウェハー上に露光転写した際の光強度分布を求めるための光強度シミュレーション手段を設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
フォトマスクの黒系欠陥の除去修正を行うレーザー修正装置において、欠陥部分を含む所定領域の画像データを変換して、所定の露光条件を用いてマスクパターンをウェハー上に露光転写した際の光強度分布を求めるための光強度シミュレーション手段を設けたことを特徴とするレーザー修正装置。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, B23K 26/00
, H01L 21/027
G03F 1/08 V
, B23K 26/00 C
, H01L 21/30 502 W
2H095BA02
, 2H095BD32
, 2H095BD34
, 4E068CA17
, 4E068CB02
, 4E068CC02
, 4E068CD10
