特許
J-GLOBAL ID:200903053080404133

微小うねり低減剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-376443
公開番号(公開出願番号):特開2004-204117
出願日: 2002年12月26日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】基板の微小うねりを効率よく低減し得る微小うねり低減剤、該微小うねり低減剤を含有する研磨液組成物、該研磨液組成物を用いる精密部品用基板のうねり低減方法及び前記研磨液組成物を用いた基板の製造方法を提供すること。【解決手段】OH基又はSH基を有する総炭素数2〜15の多価カルボン酸化合物又はその塩からなる精密部品用基板研磨用の微小うねり低減剤、該微小うねり低減剤、研磨材及び水を含有する精密部品用基板用研磨液組成物、該研磨液組成物を用いて精密部品用基板の微小うねりを低減する方法、並びに前記研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
OH基又はSH基を有する総炭素数2〜15の多価カルボン酸化合物又はその塩からなる精密部品用基板研磨用の微小うねり低減剤。
IPC (4件):
C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C09K13/04 ,  C09K13/06
FI (4件):
C09K3/14 550Z ,  B24B37/00 H ,  C09K13/04 102 ,  C09K13/06 101
Fターム (4件):
3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (8件)
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