特許
J-GLOBAL ID:200903053096490218
窒化物系化合物半導体レーザ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-234883
公開番号(公開出願番号):特開平11-074605
出願日: 1997年08月29日
公開日(公表日): 1999年03月16日
要約:
【要約】【課題】 メサ幅を極端に狭くすることなく特性の優れた横モード制御を実現することができ、かつしきい値の低減をはかる。【解決手段】 サファイア基板11上に、MQW活性層部16をAlGaNクラッド層15,17で挟んで形成されたダブルヘテロ構造のメサを有する半導体レーザにおいて、メサの側部に活性層部16よりも屈折率の高いGaN層19を埋め込んで、基本横モードを得るための反導波型の第1の導波構造を形成し、第1の導波構造の側部に発振光に対して損失を有する材料であるAu電極パッド22を配置し、高次のモードをカットオフするための第2の導波構造を形成した。
請求項(抜粋):
基板上に窒化物系化合物半導体層を積層してなる窒化物系化合物半導体レーザであって、活性層を含むメサの外側を埋め込み層で埋め込み、接合面と平行方向に屈折率差を利用して作り付けられた第1の導波構造と、発振光に対して損失を有する材料、又は第1の導波構造を形成する埋め込み層とは異なる屈折率を有する材料からなり、第1の導波構造の外側に形成された第2の導波構造とを具備してなることを特徴とする窒化物系化合物半導体レーザ。
引用特許:
審査官引用 (12件)
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半導体レーザ素子及び当該素子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-316291
出願人:株式会社日立製作所
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半導体レーザ素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-280155
出願人:株式会社日立製作所
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-070657
出願人:三菱電線工業株式会社
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特開平2-219090
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特開平2-012886
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特開平3-109790
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半導体レーザおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-343932
出願人:松下電器産業株式会社
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特開昭63-142888
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特開昭52-084990
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特開昭55-082482
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特開昭53-115188
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特開昭57-056985
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