レーザ描画方法及び描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-016037
公開番号（公開出願番号）：特開2001-205846
出願日： 2000年01月25日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：

【要約】【課題】可撓性を持たないワークであっても、レーザによる描画を高速で行うことのできるレーザ描画装置を提供すること。【解決手段】ワーク15を搭載してX軸方向、Y軸方向に可動のX-Yステージ14と、レーザアレイ11から複数のレーザビームを一括して振らせてワーク上においてX軸、Y軸の少なくとも一方の軸方向にスキャンするためのガルバノスキャナ12と、レーザアレイにおける複数の半導体レーザのオン、オフ、X-Yステージ、及びガルバノスキャナを制御するための制御装置とを含む。制御装置は、ガルバノスキャナのスキャンに同期させてX-YステージをX軸、Y軸の他方の軸方向に移動させることにより、ガルバノスキャナによるスキャン範囲L1とX-Yステージの他方の軸方向への移動範囲L2とで規定される領域の描画を行う。

請求項（抜粋）：

個別にオン、オフされる複数の半導体レーザを含むレーザアレイからの複数のレーザビームを、平板状のワークにおける互いに隣接した位置に照射して描画を行うレーザ描画方法において、前記ワークをX-Yステージ上に搭載し、前記複数のレーザビームを一括してガルバノスキャナにより振らせて前記ワーク上においてX軸、Y軸の少なくとも一方の軸方向にスキャンするようにし、前記ガルバノスキャナのスキャンに同期させて前記X-YステージをX軸、Y軸の他方の軸方向に移動させることにより、前記ガルバノスキャナによるスキャン範囲L1と前記X-Yステージの前記他方の軸方向への移動範囲L2とで規定される領域の描画を行うことを特徴とするレーザ描画方法。

IPC (7件)：

B41J 2/44 , B23K 26/00 , B23K 26/08 , G03B 27/32 , G03F 7/20 511 , H05K 3/00 , B23K101:38

FI (7件)：

B23K 26/00 H , B23K 26/08 F , G03B 27/32 Z , G03F 7/20 511 , H05K 3/00 N , B23K101:38 , B41J 3/00 Q

Fターム (20件)：

2C362AA03 , 2C362BA17 , 2C362BA57 , 2C362BA60 , 2C362BA68 , 2C362BA71 , 2C362BB22 , 2C362CB67 , 2C362DA04 , 2H097AA03 , 2H097AB08 , 2H097CA17 , 2H097LA01 , 2H106BA55 , 2H106BH00 , 4E068AB00 , 4E068CA01 , 4E068CD11 , 4E068CE03 , 4E068CE04

引用特許：

審査官引用 (6件)

投影光学系および画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-348317 出願人：富士ゼロックス株式会社
特開平4-219712
光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-134837 出願人：株式会社リコー

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