特許

J-GLOBAL ID：200903053291298305

基板選択装置

発明者： 石田 晃司 ,  山崎 清司 ,  奈良 秀之 ,  清野 創
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-232215
公開番号（公開出願番号）：特開2002-055437
出願日： 2000年07月31日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：

【要約】【課題】 フォトマスク作製の際、パタン描画に供用される、感光剤層を塗布形成したフォトマスク形成用の感光剤層塗布基板群の中から、目的とする製品を作製するための基板を、特に製品品質の面からうまく選択できる基板選択装置を提供する。【解決手段】 感光剤層を塗布形成したフォトマスク形成用の感光剤層塗布基板群の中から、目的とする製品に使用する基板を選択する基板選択装置であって、感光剤層塗布基板の、欠陥に対応して欠陥検査結果をデータベースに登録する1つ以上の欠陥登録部と、感光剤層の感度を感光剤層塗布のロット毎に、チェックした感光剤層ロットチェック結果を、データベースに登録する感光剤層ロットチェック結果登録部と、データベースに登録された欠陥検査結果、感光剤層ロットチェック結果に基づいて、基板群の中から、目的とする製品作製に使用する基板を選択する基板選択部とを備えていることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

感光材層を塗布形成したフォトマスク形成用の感光材層塗布基板群の中から、目的とする製品に使用する基板を選択する基板選択装置であって、感光材層塗布基板の、欠陥に対応して欠陥検査結果をデータベースに登録する1つ以上の欠陥登録部と、感光材層の感度を感光材層塗布のロット毎に、チェックした感光材層ロットチェック結果を、データベースに登録する感光材層ロットチェック結果登録部と、データベースに登録された欠陥検査結果、感光材層ロットチェック結果に基づいて、基板群の中から、目的とする製品作製に使用する基板を選択する基板選択部とを備えていることを特徴とする基板選択装置。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 Z ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (1件)：

2H095BD29

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フォトマスク管理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-222577   出願人：株式会社日立製作所
• 歩留り予測装置とその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-306035   出願人：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
• 半導体装置等の製造方法及びその装置並びに検査方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-334606   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭60-003631