スパッタリング装置のマグネトロンカソード

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-073402
公開番号（公開出願番号）：特開2000-265270
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課題】移動式の磁石ユニットをターゲットの背面に配置したタイプのマグネトロンカソードにおいて、ターゲット表面の中央を平坦にして外周部を内側に向かって傾斜させることにより、基板上の膜厚分布を向上させると共に、カソードからのパーティクルの発生を防ぐ。【解決手段】カソード10の内部の磁石ユニット14は回転中心42の回りを回転する。ターゲット52は中央の平坦部54とそれよりも外側に位置する傾斜部56とからなる。ターゲット52の側面62は平坦部54に対して垂直である。傾斜部56は、ターゲット10の外周に近づくにつれて磁石ユニット14から離れる方向に傾斜している。傾斜部56の傾斜角度αは5度〜45度の範囲内にするのが好ましい。

請求項（抜粋）：

ターゲットと、前記ターゲットの裏側に配置された磁石ユニットと、前記磁石ユニットを前記ターゲットに対して移動させる磁石ユニット移動機構とを備えるスパッタリング装置のマグネトロンカソードにおいて、前記ターゲットの表面が、中央の平坦部と、前記平坦部よりも外側に位置する傾斜部とからなり、前記傾斜部はターゲットの外周に近づくにつれて前記磁石ユニットから離れるような方向に傾斜していることを特徴とするマグネトロンカソード。

IPC (2件)：

C23C 14/35 , C23C 14/34

FI (4件)：

C23C 14/35 A , C23C 14/35 B , C23C 14/35 C , C23C 14/34 B

Fターム (6件)：

4K029CA05 , 4K029DC12 , 4K029DC40 , 4K029DC43 , 4K029DC45 , 4K029DC46

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-212412
マグネトロンスパッタ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-139782 出願人：テル・バリアン株式会社
特開平4-354868

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