特許
J-GLOBAL ID:200903053349164363

高圧流体を用いて微粒子や微細カプセルを製造する方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 鈴江 正二 ,  木村 俊之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-364570
公開番号(公開出願番号):特開2004-195307
出願日: 2002年12月17日
公開日(公表日): 2004年07月15日
要約:
【課題】特別な高圧容器を用いることなく配管対応のみで高分子物質を対象とした微粒子及び/あるいは微細カプセルの工業生産が行える技術を提供する。【解決手段】亜臨界ないし超臨界状態の高圧流体と、スラリー、ペースト、溶液あるいは懸濁状態の目的物質とを混合させたのち、減圧することによって微粒子や微細カプセルを製造にあたり、高圧流体と目的物質を混合部で混合する。混合部からの混合溶液を第2の高圧流体中に導入し、この第2の高圧流体と混合溶液とを減圧部にノズルを通じて噴霧する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
亜臨界ないし超臨界状態の高圧流体と、スラリー、ペースト、溶液あるいは懸濁状態の目的物質とを混合させたのち、減圧することによって微粒子や微細カプセルを製造する方法であって、 高圧流体と目的物質を混合部で混合し、混合部からの混合溶液を第2の高圧流体中に導入し、この第2の高圧流体と混合溶液とを減圧部にノズルを通じて噴霧することを特徴とする高圧流体を用いて微粒子や微細カプセルを製造する方法。
IPC (6件):
B01J19/00 ,  B01F3/04 ,  B01F5/00 ,  B01J2/00 ,  B01J3/00 ,  B01J13/04
FI (6件):
B01J19/00 N ,  B01F3/04 A ,  B01F5/00 D ,  B01J2/00 Z ,  B01J3/00 A ,  B01J13/02 A
Fターム (22件):
4G005AA01 ,  4G005BA14 ,  4G005BB17 ,  4G005BB21 ,  4G005DA04W ,  4G005DA09W ,  4G005DC02W ,  4G005DC15W ,  4G005DD04Z ,  4G005DD53W ,  4G035AB05 ,  4G035AC02 ,  4G035AE02 ,  4G075AA27 ,  4G075BB02 ,  4G075BB05 ,  4G075BD13 ,  4G075CA02 ,  4G075CA05 ,  4G075CA65 ,  4G075EC01 ,  4G075EC11
引用特許:
審査官引用 (7件)
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