特許
J-GLOBAL ID:200903053402489741
X線反射装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-110785
公開番号(公開出願番号):特開2003-004670
出願日: 2002年04月12日
公開日(公表日): 2003年01月08日
要約:
【要約】【課題】 反射装置において、低角(0°近く)における表面反射率が高角における表面反射率より著しく大きい。【解決手段】 反射装置であって、試料の表面に対して一定範囲の角度に渡って放射線を前記試料に照射するように構成された放射線源と、前記範囲の角度に渡って前記試料から反射された放射線を受け取るように配置され、前記放射線に応答する信号を生成するための検出アセンブリと、前記放射線を遮断するように調節可能に配置されたシャッターであって、前記範囲の角度の低角領域の放射線を遮断し、それによって前記範囲の高角領域の反射された放射線のみが前記アレイに到達できるようにする遮断位置と、前記範囲の低角領域の放射線が遮断されずに実質的に前記アレイに到達する開放位置とを有する、該シャッターとを含む。
請求項(抜粋):
反射装置であって、試料の表面に対して一定範囲の角度に渡って放射線を前記試料に照射するように構成された放射線源と、前記範囲の角度に渡って前記試料から反射された放射線を受け取るように配置され、前記放射線に応答する信号を生成するための検出アセンブリと、前記放射線を遮断するように調節可能に配置されたシャッターであって、前記範囲の角度の低角領域の放射線を遮断し、それによって前記範囲の高角領域の反射された放射線のみが前記アレイに到達できるようにする遮断位置と、前記範囲の低角領域の放射線が遮断されずに実質的に前記アレイに到達する開放位置とを有する、該シャッターとを含むことを特徴とする反射装置。
IPC (4件):
G01N 23/201
, G21K 1/04
, G21K 1/06
, H05G 1/56
FI (4件):
G01N 23/201
, G21K 1/04 R
, G21K 1/06 S
, H05G 1/56 K
Fターム (38件):
2G001AA01
, 2G001AA02
, 2G001BA04
, 2G001BA15
, 2G001CA01
, 2G001CA02
, 2G001DA01
, 2G001DA03
, 2G001DA08
, 2G001DA09
, 2G001EA02
, 2G001EA09
, 2G001GA06
, 2G001GA08
, 2G001HA07
, 2G001HA13
, 2G001JA02
, 2G001JA04
, 2G001JA11
, 2G001JA12
, 2G001KA01
, 2G001KA11
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001QA01
, 2G001SA01
, 2G001SA04
, 4C092AA01
, 4C092AB04
, 4C092AC08
, 4C092BB05
, 4C092BC12
, 4C092BD01
, 4C092CC04
, 4C092CD09
, 4C092CE11
, 4C092CE14
, 4C092CF43
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開昭62-255858
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X線反射率測定装置及び測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-128166
出願人:理学電機株式会社, 株式会社日立製作所
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X線複合分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-186714
出願人:株式会社日立製作所
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X線回折装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-216606
出願人:理学電機株式会社
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特開昭62-255858
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