特許
J-GLOBAL ID:200903053417087810
マスク保持機構および成膜装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
村上 友一
, 大久保 操
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-047813
公開番号(公開出願番号):特開2006-233257
出願日: 2005年02月23日
公開日(公表日): 2006年09月07日
要約:
【課題】 マスクを基板に近づけても、マスクと基板との位置関係を維持するマスク保持機構および成膜装置を提供する。【解決手段】 マスク保持機構は、成膜装置のチャック14に装着保持されている基板に被せられるマスク24のマスク保持機構であって、前記マスク24は、磁性体で形成されてなり、前記チャック14の前記基板を保持するチャック面と反対側に、磁石16を点状に配設した構成である。そして前記磁石16は、格子を形成する格子点に配設された構成にすることができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
成膜装置のチャックに装着保持されている基板に被せられるマスクのマスク保持機構であって、
前記マスクは、磁性体で形成されてなり、
前記チャックの前記基板を保持するチャック面と反対側に、磁石を点状に配設した、
ことを特徴とするマスク保持機構。
IPC (7件):
C23C 14/24
, C23C 14/04
, C23C 14/12
, C23C 14/50
, C23C 14/56
, H05B 33/10
, H01L 51/50
FI (7件):
C23C14/24 G
, C23C14/04 A
, C23C14/12
, C23C14/50 F
, C23C14/56 J
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (10件):
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029HA04
引用特許:
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