特許
J-GLOBAL ID：200903003400032089

マスク蒸着方法及び装置、マスク及びマスクの製造方法、表示パネル製造装置、表示パネル並びに電子機器

発明者：
跡部 光朗

跡部 光朗 について

, 
四谷 真一

四谷 真一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (4件)： 佐々木 宗治 ,  小林 久夫 ,  木村 三朗 ,  大村 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-350950
公開番号（公開出願番号）：特開2004-183044
出願日： 2002年12月03日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【課題】高精度なアライメントを実現しつつ、時間短縮を図ることができ、量産を可能とするようなマスク蒸着方法等を実現する。【解決手段】被蒸着対象であるガラス基板20をステージ1の静電引力によって吸引する工程と、吸引されたガラス基板と蒸着マスク2との位置合わせを行う工程と、蒸着対象である電界発光素子となる有機化合物を蒸発させてガラス基板20に蒸着する工程とを有するものである。そして、場合によっては、蒸着マスクに静電チャック機能を有させて密着性を高める。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被蒸着対象を静電引力によって吸引する工程と、 前記吸引された被蒸着対象と蒸着用マスクとの位置合わせを行う工程と、 蒸着対象を蒸発させて前記被蒸着対象に蒸着する工程と を有することを特徴とするマスク蒸着方法。
IPC (3件)：
C23C14/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (3件)：
C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (12件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA04 ,  4K029BA01 ,  4K029BA31 ,  4K029BA46 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA04
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 真空蒸着装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-083426   出願人：日本電気株式会社
  • マスク蒸着方法及び蒸着装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-259028   出願人：日本電気株式会社
  • 半導体製造装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-127952   出願人：株式会社東芝

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