特許

J-GLOBAL ID：200903053418336244

ナノ粒子製造方法およびナノ粒子製造装置

発明者： 渡邉 雅人 ,  菅井 弘 ,  高村 仁
出願人/特許権者： 株式会社スリー・アール ,  国立大学法人東北大学
代理人 (1件)： 須田 篤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-091897
公開番号（公開出願番号）：特開2008-246394
出願日： 2007年03月30日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：

【課題】マイクロ空間を利用した新たな生成原理に基づいて、制御性のよい高品質なナノ粒子を製造することができるナノ粒子製造方法およびナノ粒子製造装置を提供する。【解決手段】代表長さ5μm〜5mmのマイクロリアクタ11に流路12から前駆体溶液を供給し、マイクロリアクタ11に供給された前駆体溶液に、照射ビーム発生装置13により、レーザー光、電磁波、粒子線または超音波のうちのいずれか単独のエネルギービームまたは複数を複合したエネルギービームを照射してナノ粒子を生成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

代表長さ5μm〜5mmのマイクロリアクタに供給された前駆体溶液に、レーザー光、電磁波、粒子線または超音波のうちのいずれか単独のエネルギービームまたは複数を複合したエネルギービームを照射してナノ粒子を生成することを、特徴とするナノ粒子製造方法。

IPC (3件)：

B01J 19/12 ,  B22F 9/00 ,  B22F 9/02

FI (3件)：

B01J19/12 H ,  B22F9/00 B ,  B22F9/02 Z

Fターム (23件)：

4G075AA27 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BB05 ,  4G075BB08 ,  4G075BD15 ,  4G075BD22 ,  4G075BD23 ,  4G075CA02 ,  4G075CA23 ,  4G075CA24 ,  4G075CA33 ,  4G075CA36 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB25 ,  4G075EC06 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15 ,  4K017AA03 ,  4K017BA02 ,  4K017CA08 ,  4K017EF05

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 国際公開第2004/083124号パンフレット
  
• 微粒子製造装置および微粒子製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-366210   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
• 銅酸化物微粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-281066   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (3件)

• 金属超微粒子の製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-075770   出願人：中崎義晃, 株式会社プラネット
• 特開平3-215608
  
• 特開平3-215608