微粒子製造装置および微粒子製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：原謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-366210
公開番号（公開出願番号）：特開2005-125280
出願日： 2003年10月27日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【課題】微粒子を安定して連続製造することができる微粒子製造装置および微粒子製造方法を提供する。【解決手段】本発明の微粒子製造装置では、マイクロ流路6に前駆体含有溶液を通過させて微粒子を連続的に製造する。このマイクロ流路6の内壁は、内壁が官能基等により表面修飾されており、疎水性、親水性、または表面電荷が制御されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マイクロ流路に前駆体と溶媒とからなる前駆体含有溶液を通過させて微粒子を連続的に製造する微粒子製造装置であって、上記マイクロ流路は、内壁が表面修飾されていることを特徴とする微粒子製造装置。

IPC (2件)：

B01J19/00 , C01B19/04

FI (2件)：

B01J19/00 N , C01B19/04 C

Fターム (12件)：

4G075AA27 , 4G075BA05 , 4G075BB05 , 4G075BB08 , 4G075BD16 , 4G075BD22 , 4G075CA02 , 4G075EA06 , 4G075EB25 , 4G075EC06 , 4G075FB06 , 4G075FC15

引用特許：

出願人引用 (1件)

ナノ粒子製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-028790 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

審査官引用 (8件)

ナノ粒子の製造方法および該ナノ粒子含有分散液の調製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-388573 出願人：富士写真フイルム株式会社
ナノ粒子の製造方法および該ナノ粒子含有分散液の調製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-388572 出願人：富士写真フイルム株式会社
粒子製造方法および粒子製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-077210 出願人：株式会社東芝

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