特許
J-GLOBAL ID：200903053439273455

薄膜型NDフィルタ及びその製造方法

発明者：
国井 弘毅

国井 弘毅 について


出願人/特許権者：
日本電産コパル株式会社

日本電産コパル株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-226999
公開番号（公開出願番号）：特開2003-043211
出願日： 2001年07月27日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】 可視域において均一に光量を減衰可能であり且つ耐久性に優れた薄膜型NDフィルタを提供する。【解決手段】 NDフィルタは、光吸収膜3,5と誘電体膜2,4,6を透明基板1上に積層した薄膜型である。記光吸収膜3,5は、金属材料Tiを原料として蒸着により成膜されたものであり、酸素を含む混合ガスを成膜時に導入し、真空度を1×10-3Paないし1×10-2Paの間で一定に維持した状態で生成した金属材料の酸化物TiOxを含有する。尚、混合ガスの酸素比率は50%以下である。光吸収膜3,5と誘電体膜2,4,6を透明基板1に積層した後、酸素を10%以上含む酸素雰囲気で加熱し、光学特性の変化を飽和させるとよい。
請求項（抜粋）：
光吸収膜と誘電体膜を透明基板上に積層した薄膜型NDフィルタであって、前記光吸収膜は、金属材料を原料として蒸着により成膜されたものであり、酸素を含む混合ガスを成膜時に導入し、真空度を1×10-3Paないし1×10-2Paの間で一定に維持した状態で生成した金属材料の酸化物を含有することを特徴とする薄膜型NDフィルタ。
IPC (3件)：
G02B 5/00 ,  C23C 14/06 ,  G02B 5/28
FI (3件)：
G02B 5/00 A ,  C23C 14/06 N ,  G02B 5/28
Fターム (19件)：
2H042AA06 ,  2H042AA11 ,  2H042AA22 ,  2H048GA04 ,  2H048GA07 ,  2H048GA14 ,  2H048GA60 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA07 ,  4K029BA12 ,  4K029BA17 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029EA03
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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