特許
J-GLOBAL ID：200903053496679840
プラズマ処理方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-235276
公開番号（公開出願番号）：特開平11-144894
出願日： 1998年08月21日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 確実に整合状態を得ることができるプラズマ処理方法および装置を提供する。【解決手段】 真空容器1内を所定の圧力に保ちながら、第2可変コンデンサ11のインピーダンスが固定された状態と、アンテナ用整合回路12内のセンサー16からのフィードバック信号によって高周波電力の反射電力を減少させるように制御された状態のいずれの状態にあるかにかかわらず、第1可変コンデンサ10のインピーダンスを、固定した状態と、アンテナ用整合回路12内のセンサー16からのフィードバック信号によって高周波電力の反射電力を減少させるように制御された状態とを、任意の時点で切り換えることができるように構成されているアンテナ用整合回路12を介して、高周波電力を誘電体5上に載置されたアンテナ6に供給することにより、真空容器1内にプラズマが発生し、電極7上に載置された基板8に対してエッチング、堆積、表面改質等のプラズマ処理を行うことができる。
請求項（抜粋）：
真空容器内にガスを供給しつつ真空容器内を排気し、真空容器内を所定の圧力に制御しながら、第1可変素子および第2可変素子を備えた整合回路を介して、アンテナまたはコイルまたは電極に高周波電力を供給することにより、真空容器内にプラズマを発生させ、真空容器内の電極に載置された基板を処理するプラズマ処理方法において、第1可変素子のインピーダンスを固定し、かつ、第2可変素子のインピーダンスを、整合回路内のセンサーからのフィードバック信号によって高周波電力の反射電力を減少させるように制御された状態で、高周波電力の供給を開始し、その後、第1可変素子のインピーダンスを、整合回路内のセンサーからのフィードバック信号によって高周波電力の反射電力を減少させるように制御された状態にすることを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (8件)：
H05H 1/46
, C23C 14/54
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
, H01Q 9/27
H05H 1/46 L
, C23C 14/54 F
, C23C 14/54 B
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, H01L 21/31 C
, H01Q 9/27
, H01L 21/302 B
