真空プラズマ・プロセッサの整合ネットワークを制御するための装置およびそのための記憶装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田精孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-524478
公開番号（公開出願番号）：特表2000-502829
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】真空プラズマ処理チャンバ内のプラズマ放電を含む負荷が、放電を維持するために放電に充分な電力を供給する高周波源に整合される。高周波源とチャンバのプラズマ励起構成部品の間に接続された整合ネットワークは第1および第2の可変リアクタンスを含む。マイクロプロセッサによって、負荷から発生源の出力端子に反射された出力が最小化されるまで第2のリアクタンスの値が一定に維持されている間に第1のリアクタンスの値が変更される。反射された最小出力が変化しなくなるまで、すなわち整合がとれるまで、これらリアクタンス値は交互に変更される。放電を開始するために、マイクロプロセッサは、一方のリアクタンスの値が一定に維持されている間に他方のリアクタンスの値が変更されるようにする。

請求項（抜粋）：

真空プラズマ処理チャンバ内のプラズマ放電を含む負荷を、放電に対して充分な電力を供給するための高周波源に整合させて放電を維持するための装置において、前記装置が、整合ネットワークが高周波源とチャンバのプラズマ励起用構成部品の間に接続されている状態で動作したり操作され、整合ネットワークが第1および第2の可変リアクタンスを含み、前記装置が: (a)負荷および整合ネットワークから高周波源に反射されてきた出力の関数を測定する手段と; (b)測定された反射出力の関数が事前決定された関係を持つまで第2のリアクタンスの値が維持されている間に第1のリアクタンスの値を変更する手段と; (c)事前決定された関係を持つ、測定された反射出力の関数に反応して、測定された反射出力の関数が事前決定された関係を持つまで第1のリアクタンスの値が維持されている間に第2のリアクタンスの値を変更する手段と;を具備することを特徴とする装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 , H01J 37/32 , H03H 7/40

FI (4件)：

H05H 1/46 R , H01J 37/32 , H03H 7/40 , H05H 1/46 L

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭61-139111
特開平1-201244
高周波電源
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-345573 出願人：横河電機株式会社

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