特許
J-GLOBAL ID：200903053562054270

プラズマ処理装置

発明者：
浜 貴一

浜 貴一 について

, 
本郷 俊明

本郷 俊明 について

, 
栗木 康幸

栗木 康幸 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-379488
公開番号（公開出願番号）：特開2002-237490
出願日： 1996年10月17日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】 高周波誘導結合プラズマ装置のプラズマ密度の均一化を図る。【解決手段】 本発明によれば,高周波アンテナ120に高周波電力を印加することにより,誘電体118を介して処理室内102aに誘導結合プラズマを励起し,処理室内の被処理体に対して所定のプラズマ処理を施すように構成されたプラズマ処理装置において,前記高周波アンテナは,密に配される領域と疎に配される領域とを有することを特徴とする,プラズマ処理装置が提供される。本発明によれば,高周波アンテナが密に配される領域と疎に配される領域から各々処理室内に伝達される電界を均一にすることができるため,処理室内に均一な高密度プラズマを安定して励起することができる
請求項（抜粋）：
高周波アンテナに高周波電力を印加することにより,誘電体を介して処理室内に誘導結合プラズマを励起し,前記処理室内の被処理体に対して所定のプラズマ処理を施すように構成されたプラズマ処理装置において:前記高周波アンテナは,密に配される領域と疎に配される領域とを有することを特徴とする,プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
Fターム (23件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB21 ,  5F004BB25 ,  5F004BC06 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA01 ,  5F004DA04 ,  5F004DA11 ,  5F004DB03 ,  5F004DB09 ,  5F045AA08 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH11 ,  5F045EJ03 ,  5F045EM03
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM