特許
J-GLOBAL ID：200903053569970743
改良された反射防止表面処理塗膜
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-512016
公開番号（公開出願番号）：特表平9-506185
出願日： 1994年10月12日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：
【要約】フォトレジスト用の反射防止塗料組成物、及び屈折率が約1.20より大きく、約1.40までであり、四分の一波長厚さに塗布することができ、また下層のフォトレジスト用の現像液で除去可能な塗膜を得る方法。この塗料組成物は、以下の単位を有するコポリマーを含んでなる。a)ここでXはCO2L、SO3L、OH、CO(OC2H4)xOH、CONHC(CH3)2CH2SO3L、PO3L2もしくはCONH2である。ここでLはH、I族もしくはII族のカチオン、又はNH4+であり、xは0〜10である。b)ここでYはフッ素、もしくはフッ素を含有する脂肪族有機置換基であり、好ましくはCOO(CH2)x(CF2)nCF3、SO2O(CH2)x(CF2)nCF3、SO2(OC2H4)xO(CH2)x(CF2)nCF3、CO(OC2H4)xO(CH2)x(CF2)nCF3、もしくはから選ばれるものである。ここで脂肪鎖は枝分かれしていても、いなくてもよい。ここで、RはH、ハロゲン、CF3、C1〜C8アルキル、もしくはCNであり、nは0〜14、xは0〜10である。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト用の反射防止塗料組成物であって、その塗膜の屈折率が約1.2より大きく、約1.40までであり、四分の一波長厚さに塗布することができ、また下層のフォトレジスト用の現像液で除去可能であり、以下の単位を有するコポリマーを含んでなる反射防止塗料組成物。 a) ここでXはCO2L、SO3L、OH、CO(OC2H4)xOH、CONHC(CH3)2CH2SO3L、PO3L2もしくはCONH2である。ここでLはH、I族もしくはII族のカチオン、又はNH4+であり、xは0〜10である。 b) ここでYはフッ素、もしくはフッ素を含有する脂肪族有機置換基である。 ここで、RはH、ハロゲン、CF3、C1〜C8アルキル、もしくはCNである。
IPC (13件)：
G03F 7/11 501
, C09D 5/00 PPQ
, C09D133/02 PFW
, C09D133/14 PFZ
, C09D133/16
, C09D133/18
, C09D133/24
, C09D141/00 PGL
, C09D143/02
, C09D155/00 PGZ
, G02B 1/10
, G03F 7/004 506
, H01L 21/027
G03F 7/11 501
, C09D 5/00 PPQ
, C09D133/02 PFW
, C09D133/14 PFZ
, C09D133/16
, C09D133/18
, C09D133/24
, C09D141/00 PGL
, C09D143/02
, C09D155/00 PGZ
, G03F 7/004 506
, G02B 1/10 Z
, H01L 21/30 574
