特許

J-GLOBAL ID：200903053646514373

成膜装置、発光装置及びその作製方法

発明者： 山崎 舜平
出願人/特許権者： 株式会社半導体エネルギー研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-208605
公開番号（公開出願番号）：特開2002-100472
出願日： 2001年07月09日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 印刷法を用いる際に印刷材料の溶媒が揮発することにより生じる問題を解決する。【解決手段】 発光装置の画素部に印刷法を用いてEL層を形成するための処理室(または、印刷室と呼ぶ)の圧力を大気圧(常圧)又は大気圧以上の加圧状態にし、さらに印刷室内を不活性気体で充填したり、溶媒雰囲気とすることを特徴とする。これにより、印刷材料の溶媒が揮発して変化するのを防ぐことができるため、成膜の困難性を解決することができる。

請求項（抜粋）：

EL層が形成される処理室を有する成膜装置であって、前記処理室は圧力調節機構と接続され、前記圧力調節機構により前記処理室内が大気圧以上に加圧されることを特徴とする成膜装置。

IPC (7件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14

FI (7件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A

Fターム (38件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB01 ,  3K007BB05 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA09 ,  5C094DA13 ,  5C094DB01 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EA07 ,  5C094EB02 ,  5C094FB01 ,  5C094GB10 ,  5C094JA20 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10 ,  5G435LL03 ,  5G435LL06 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• SOGコーター及びSOG膜の成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-304826   出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
• 成膜装置及びそれを用いた発光装置の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-358857   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所