特許
J-GLOBAL ID：200903053693006149
マクロ検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-332208
公開番号（公開出願番号）：特開平9-172044
出願日： 1995年12月20日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：
【要約】【課題】半導体製造に用いるウェハ(Wf、以下Wfを用いて説明する。)の異物の有無、製造工程での膜厚分布のチェック等の良否判別を行なうマクロ検査装置に関する。特に、マクロ検査装置の受光方式と良否判定方式を改良することによりWfの良否判定のばらつきを低減し、省人化を図る。【解決手段】マクロ検査装置において、受光部の前にスリット,ピンホ-ルを設ける構造とし、Wf上の微小領域からの反射光、散乱光を受光部で連続的信号として捉える。この連続的信号に対し、演算装置内で予め設定された域い値の上下限を超えたものを不良と判定させる構成とした。また、不良判定位置を2次元マトリックスイメ-ジとして捉え、Wf上に投影することで、不良判定位置座標を報告する構成とした。
請求項（抜粋）：
良否の判別を演算装置により行う事を特徴とするマクロ検査装置。
FI (2件)：
H01L 21/66 A
, H01L 21/66 J
